Tantalum Sputtering Target

Shaanxi Zhongheng Weichuang Metal Materials Co ., Ltd . се намира в зоната за високотехнологично развитие на град Баоджи, провинция Шаанси . Компанията главно произвежда конвенционални обработени профили, като да има, жилища, фолио, Rods, Wires и Pipes, направени от Tantalum, Ni hafnium, tantalum tungsten alloy, niobium hafnium alloy c103, as well as deep processed products such as ships, crucibles, sputtering targets, coating targets, machined parts, high-temperature furnace insulation screens, heating elements, furnace bodies (heating furnaces, annealing furnaces), and corrosion-resistant equipment.

 

 

Подробно обяснение на спецификациите на целевия материал за разпръскване на танталум

01.

Спецификации на диаметъра/дебелината

Спецификации на диаметъра: Общите стандартни диаметри са 50 мм, 50 . 8 мм, 57 мм, 60 мм, 76,2 мм, 80 мм, 100 мм и 101,6 мм, с обхват на персонализиране 50-400 mm.
Спецификация на дебелината: Основната дебелина обикновено е 0.1-50 mm (като 3 мм е обща стойност) и може да бъде обвързан с медна задна цел (като 2 мм или 3 мм меден слой) или оборудван с магнитни уплътнения, за да отговаря на конкретна съвместимост на оборудването .

02.

Степен на чистота/материал Състояние/форма и персонализиране

Ниво на чистота: Висока чистота, по -голяма или равна на 99 . 95% или по -голяма или равна на 99,99%, подходяща за приложения за полупроводник.
Материално състояние: Осигурете отгряло състояние (M) или твърдо състояние (Y), за да отговаряте на различни изисквания за обработка .
Shape and Customization: Supports customization of flat targets, rotating targets, and irregular targets. The dimensions, tolerances (such as surface roughness<=32Rms), and binding methods can be flexibly designed according to drawings or requirements.
Степен на чистота/Материал Състояние/Форма и персонализиране

Характеристики:
Висока точка на топене и отлична химическа стабилност: Tantalum има точка на топене 3017 градуса и точка на кипене от 5458 градуса . Не реагира с Aqua Regia при стайна температура и има отлична устойчивост на корозия .
Уникални електрически свойства: Tantalum показва отлични електрически свойства и е подходящ за процеси на разпръскване от висок клас, като RF разпръскване с плътност на мощността до 15W/cm ² .
High temperature stability and low gas adsorption: maintaining a strength of>400MPa на 500 градуса, с повърхностна енергия до 0 . 8J/m ², ефективно потискайки адсорбцията на AR газ и подобряване на скоростта на отлагане на филма.

Цел:
Производство на полупроводници: Целите на тантала обикновено се използват като бариерни материали за технология за свързване на мед в полупроводникови интегрални вериги . азотът Tantalum/Tantalum (TA/TAN) структурата на двуслойната конструкция може ефективно да удължи времето за отказ на електромиграция до 10 ⁷ часа {2}
Оптично покритие: Целите на тантала се използват за производство на тънки филми със специфични оптични свойства чрез физическо отлагане на пари (PVD) или техники за отлагане на химически пари (CVD) и се използват широко в оптични устройства, дисплеи и сензори .
Медицински изделия: Tantalum има добра биосъвместимост и е подходящ за медицински импланти като костни плочи и ставни протези, намалявайки реакциите на отхвърляне на човека .
Антило корозионно покритие: Поради отличната устойчивост на корозия на тантала, той се използва за покриване на химическо оборудване и метални повърхности, изложени на екстремни среди, удължавайки експлоатационния живот на оборудването .
Други приложения: Целевите материали на Tantalum също се използват при производството на магнитни носители за съхранение, мастиленоструйни принтерни глави и дисплеи на плосък панел .

Популярни тагове: Tantalum Sputtering Target, China Tantalum, разпръскващи целеви производители, доставчици, фабрика, танталум за химически резервоари, верига за доставки на суровини на Tantalum