Hafnium ingot
Ingot е суровината на Hafnium, обикновено във формата на цилиндър с диаметър между {{0}} mm. Чистотата му може да достигне 99,99%и може да съдържа различни пропорции на цирконий (като 0. 2%, 0. 3%, или 0,5%). Графите се използват главно като суровини за производството на продукти на Hafnium, като катоди за рентгенови тръби, електроди за епруветки с високо напрежение и абсорбатори за системи за пълнене на газ.
Описание
Shaanxi Zhongheng Weichuang Metal Materials Co., Ltd. се намира в зоната за развитие на високотехнологиите на град Баоджи, провинция Шанси. Нашите основни продукти, табели, пръти, тръби, проводници, частици, фолио и други конвенционални обработени профили на тантал, ниобий, титан, никел, цирконий, хафний и техните сплави, както и дълбоки обработени продукти като Prucibles, заземяващи пръстени, защитни тръби, целеви материали, винтове и др. 24- час след продажбата.
Кратко въведение
Полета за приложение и перспективи за развитие
Области на приложение: Разделени на четири основни полета: полупроводникови и разпръснати целеви материали, висока температура\/вакуумна промишленост, кондензаторни аноди и антикорозионно инженерство. Обяснете стойността на приложението.
Перспективи за развитие: с нетърпение очакваме тенденциите за технологично развитие от четири посоки: подобряване на чистотата, мащабен размер, иновации в процесите и устойчивост.
Процес на подготовка и предпазни мерки
Процес на подготовка: Подробно въвеждане на три основни производствени процеса (метод на топене на електронни лъчи, редукция на въглеродния процес на комбиниране на топене на електронни лъчи, метод на топене на плазмен) и сравнение на характеристиките на процеса чрез таблици.
Внимание: Анализирайте ключовите точки в производството от три аспекта: защита на безопасността, контрол на качеството и контрол на процесите и избройте специфични рискове и мерки за контрол.
Tantalum Ingot е метален слит с висока чистота, образуван от топене и пречистване на рядък метален тантал (TA), и е основният основен материал на индустриалната верига за обработка на материали Tantalum. Tantalum Metal има поредица от изключителни физически и химични свойства: точката на топене е до 3017 градуса, класирайки се на шесто място сред всички метали; Плътността е 16,65 g\/cm ³, което принадлежи към високо специфични гравитационни метали; Едновременно притежава отлична пластичност и механична обработка. Тези характеристики правят Tantalum Ingots в незаменим ключов материал за производството от висок клас.
По отношение на микроструктурата, висококачествените танталум блокира трябва да отговарят на строгите стандарти за чистота. According to industry standards, the purity of tantalum ingots used for semiconductor target materials must reach 99.999% (5N level) or above, with particularly strict control over the content of key impurity elements: interstitial impurity elements carbon (C) Less than or equal to 10ppm, oxygen (O) Less than or equal to 15ppm, nitrogen (N) Less than or equal to 15ppm, hydrogen З) по -малко или равно на 2ppm; Високи точкови метални примеси като Niobium (NB) по -малко или равни на 2PPM, волфрамов (W) по -малък или равен на 1ppM, молибден (Mo) по -малък или равен на 1PPM; Радиоактивните елементи уран (U) и торий (TH) са по -малко или равни на 0,001ppm. Общото количество метални примеси (без газови елементи) не трябва да надвишава 10ppm. В същото време Tantalum Ingots трябва да имат еднаква и гъста структура на зърното, като твърдостта на Vickers (HV\/9.8N) е по -малка или равна на 85, плътност в диапазона от 16. 5-16. 6 g\/cm ³ и строг контрол на ултразвуковия дефект на откриване на недостатъци под 1%.
Tantalum Ingots, произведени индустриално, обикновено имат цилиндрична или правоъгълна форма, с уникална метална сива повърхност. Според различни крайни приложения диапазонът на диаметъра на Tantalum Ingots варира от 200 mm до 450 mm, а теглото може да достигне над 300 кг. Тази форма на дизайн е полезна за последваща обработка на налягането (като коване и търкаляне), като същевременно свежда до минимум дефектите на ръба, генерирани по време на процеса на леене.
От страна на приложението, приложенията с висока стойност на Tantalum Ingots все още са концентрирани в три основни полета: полупроводникови разпръскващи цели, високотемпературни вакуумни устройства и кондензатори от висок клас и са показали потенциал в развиващите се полета като биомедицински импланти. Изискванията за изпълнение на Tantalum Ingots в различни сценарии на приложение показват силно диференцирани характеристики, стимулирайки развитието на процесите на подготовка към персонализиране и функционализация. Предприятията, които са основни технологии за подготовка на основни и модели на кръгова икономика, ще заемат стратегическо предимство в световната верига на индустрията Tantalum.
Популярни тагове: Hafnium Ingot, China Hafnium Ingot производители, доставчици, фабрика, Танталум сплав за компоненти на реактора
Изпрати запитване
Може да харесаш също
